HPMC YB 515M

EipponCell HPMC YB 515M, विशेषत: मानक टाइल अॅडहेसिव्ह ऍप्लिकेशन्ससाठी डिझाइन केलेले, खालील गुणधर्म आहेत:

टाइल अॅडेसिव्हच्या खुल्या वेळेवर प्रभाव

जेव्हा लेटेक्स पावडर आणि सेल्युलोज इथर HPMC ओल्या मोर्टारमध्ये उपस्थित असतात, तेव्हा RDP पावडर सिमेंट हायड्रेशन उत्पादनासह एक मजबूत बंधनकारक ऊर्जा प्रदर्शित करते, तर सेल्युलोज इथर मुख्यत्वे इंटरस्टिशियल फ्लुइडवर परिणाम करते, मोर्टारच्या चिकटपणावर आणि निर्धारित वेळेवर परिणाम करते.

आरडीपी पावडर सिमेंट हायड्रेशन उत्पादनांमध्ये वाढीव जोड दर्शविते, तर सेल्युलोज इथर प्रामुख्याने इंटरस्टिशियल फ्लुइडवर परिणाम करते, मोर्टार चिकटपणा आणि सेट वेळेवर परिणाम करते.

ओल्या मोर्टारमध्ये लेटेक्स पावडर आणि सेल्युलोसिक इथर एचपीएमसीचे सहअस्तित्व मोर्टारच्या गुणधर्मांवर परिणाम करते, आरडीपी पावडरमध्ये मोठी बंधनकारक ऊर्जा असते आणि सेल्युलोसिक इथर स्निग्धता प्रभावित करते आणि इंटरस्टिशियल फ्लुइडमध्ये त्याच्या उपस्थितीमुळे वेळ सेट करते.

टाइल अॅडेसिव्हच्या पुल-आउट ताकदीवर प्रभाव

मोर्टारमधील सेल्युलोज इथर केवळ फायदेशीर गुणधर्मच देत नाही तर मूळ खनिज टप्प्याऐवजी हायड्रेटेड उत्पादनावर शोषून सिमेंटच्या हायड्रेशन डायनॅमिक्सला विलंब करते.सेल्युलोज इथरमुळे वाढलेल्या स्निग्धतामुळे छिद्र सोल्युशनमधील आयनच्या कमी गतिशीलतेला हा मंदता परिणाम कारणीभूत आहे.

सिमेंट प्रणालींमध्ये सेल्युलोज इथरची उपस्थिती मूळ खनिज अवस्थेऐवजी हायड्रेटेड उत्पादन शोषून हायड्रेशन गतीशीलता कमी करते, तसेच छिद्र द्रावणाची चिकटपणा देखील वाढवते, ज्यामुळे आयन गतिशीलता कमी होते आणि हायड्रेशन प्रक्रिया आणखी मंद होते.

सिमेंट हायड्रेशनवर सेल्युलोज इथरचा मंदता प्रभाव प्रामुख्याने हायड्रेटेड उत्पादनामध्ये शोषून आणि त्यानंतरच्या छिद्राच्या द्रावणाच्या स्निग्धतेत वाढ झाल्यामुळे प्राप्त होतो, ज्यामुळे आयन गतिशीलतेमध्ये अडथळा येतो आणि एकूण हायड्रेशन डायनॅमिक्सला विलंब होतो.